JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外菠萝蜜视频网站入口地址清洗機
簡介
UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程，其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、矽油和助熔劑的汙染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發和/或解離。分子氧經184.9nm分解，菠萝蜜视频网站入口地址經253.7nm分解，同時生成原子氧。
253.7nm輻射被大多數碳氫化合物和菠萝蜜视频网站入口地址吸收。汙染物分子的這種激發產物與氧原子反應，形成更簡單的揮發性分子，從表麵解吸。因此，當兩種波長同時存在時，原子氧不斷產生，菠萝蜜视频网站入口地址不斷形成和破壞。
通過將適當的預清潔樣品放置在菠萝蜜视频网站入口地址產生UV源的5毫米範圍內，例如UVO-Cleaner®內部的低壓汞蒸汽網格燈，可以在不到一分鍾的時間內實現接近原子清潔的表麵。此外，該工藝不會損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結構。
ufo - cleaner®是去除矽，砷化镓，石英，藍寶石，玻璃，雲母，陶瓷，金屬和導電聚酰亞胺水泥中的有機汙染物的安全，有效的方法。它的建造壽命長，維護成本低，服務無故障。
應用程序:
•在薄膜沉積/剝離和穩定光刻膠之前清洗襯底
•矽片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性製導子組件和GaAs晶圓的清洗
•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗
•蝕刻Teflon®，Viton®和其他有機材料
•增強GaAs和Si的氧化鈍化表麵
•減少玻璃的放氣
去除晶圓膠帶
•提高塗料對塑料的附著力
•測試後從晶圓上去除油墨
•剝離光刻膠
•從光刻板中去除潛在圖像
•清洗光刻版
•在矽片上生長氧化層
•在包裝/粘合前清洗電路板
•增加表麵親水特性
•生物科學應用的清洗和滅菌
•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡
紫外清洗優點
1. 被清洗的表麵除了光子，不與任何物體發生接觸，有機物經過紫外光照射發生光敏氧化反應後，生成可揮發性氣體 （CO2、CO、H2O） 等從表麵消散，隨著排風係統抽走。
2. 表麵潔淨度高，且不會像溶液清洗時發生二次汙染。
3. 光清洗的表麵不會受到損傷，由於光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗後的表麵不會受到損傷或發生晶體缺陷的現象。
4. 光清洗對物體表麵微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。 由於紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表麵的極為細微的部位，發生光敏氧化反應，充分表現出光清洗的徹底性。
可選設備：
所有裝置均配有菠萝蜜视频网站入口地址殺滅器和鼓風機套件，無需外部排氣即可使用該裝置。菠萝蜜视频网站入口地址殺手將解離排氣中的微量菠萝蜜视频网站入口地址，而鼓風機將增加排氣流量。
單位尺寸可根據客戶需求定製。可能需要支付額外費用。
設備提供以下電源配置：
120V/60Hz 220V/50Hz
220V/60Hz
100V 50/60Hz
**菠萝蜜视频网站入口地址濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會極大地影響清潔速率。
Outer Dimensions
Length Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)
350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray Dimensions
Width Length Height (Adjustment Range)
165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid Lamp
Type Average Intensity Distance Measured Away From Lamp
Low Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical Characteristics
Output Power
Voltage Current
6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power Requirements
Model Voltage Frequency Current
42 120 VAC 60 Hz 2.0 A
42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A
42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A
42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A
42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
